슈퍼 X선 면적 밀도 측정 게이지
측정원리
광선이 전극을 조사할 때 광선은 전극에 의해 흡수, 반사 및 산란되어 입사 광선 강도에 비해 투과된 전극 이후의 광선 강도가 특정 감쇠를 가져오며 감쇠 비율은 무게에 따라 음의 지수 함수입니다. 또는 전극의 면적 밀도.
I=I_0 e^−λm⇒m= 1/λln(I_0/I)
I_0 : 초기 광선 강도
I : 전극 투과 후 광선 강도
λ : 측정물의 흡수계수
m : 측정 대상의 두께/면적 밀도
장비 하이라이트
반도체 센서와 레이저 센서 측정 비교
● 상세한 윤곽 및 특징 측정: 고속, 고정밀(60m/min)로 밀리미터 공간 분해능 면적 밀도 윤곽 측정
● 초폭 측정: 1600mm 이상의 코팅 폭에 적용 가능합니다.
● 초고속 스캐닝: 스캐닝 속도를 0-60m/분으로 조정 가능합니다.
● 전극 측정을 위한 혁신적인 반도체 광선 검출기: 기존 솔루션보다 10배 빠른 응답.
● 고속 및 고정밀 리니어 모터로 구동: 기존 솔루션에 비해 스캔 속도가 3-4배 향상됩니다.
● 자체 개발한 고속 측정 회로: 샘플링 주파수는 최대 200kHZ로 폐쇄 루프 코팅의 효율성과 정확성이 향상됩니다.
● 박화 용량 손실 계산: 스폿 폭은 최대 1mm까지 작을 수 있습니다. Edge Thinning 영역의 윤곽선, 전극 코팅의 스크래치 등 세부적인 특징을 정확하게 측정할 수 있습니다.
소프트웨어 인터페이스
측정 시스템의 메인 인터페이스를 사용자 정의 가능한 디스플레이
● 박화부 판정
● 용량 결정
● 스크래치 판정
기술적인 매개변수
목 | 매개변수 |
방사선 방호 | 장비 표면 100mm의 방사선량은 1μsv/h 미만입니다. |
스캔 속도 | 조정가능한 0-60m/min |
샘플 주파수 | 200kHz |
응답 시간 | <0.1ms |
측정 범위 | 10-1000g/㎡ |
스폿 폭 | 1mm, 3mm, 6mm 옵션 |
측정 정확도 | P/T≤10%16초 적분:±2σ:≤±참값×0.2‰ 또는 ±0.06g/㎡; ±3σ:≤±참값×0.25‰ 또는 ±0.08g/㎡;4초 적분:±2σ:≤±참값×0.4‰ 또는 ±0.12g/㎡; ±3σ:≤±참값× 0.6‰ 또는 ±0.18g/㎡; |
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